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乙醇超臨界裝置采用的控制系統(tǒng)是觸摸式顯示屏和PLC，自動控制系統(tǒng)*采用國外設計和制造標準，整個系統(tǒng)有多達五級的安全保護設計和配置，*達到引進水平。

多釜平行裝置基于提升實驗室工作效率理念而設計的一種耐高壓高溫的多位反應裝置，快速、高效反應篩選，多支持6組反應同時運行。

巖征儀器白炭黑反應裝置配備安全系統(tǒng)如：過壓保護、超溫保護、誤操作保護、緊急卸壓操作等。

超高溫高壓反應釜聚合反應裝置適用于實驗室工作臺面，體積小，操作簡便，工作溫度：300攝氏度；工作壓力：10mpa； 采用耐高溫強磁技術： 磁子攪拌：攪拌轉速1200轉/分，適合物料粘度低的攪拌使用； 磁耦攪拌：采用磁耦合技術，攪拌槳攪拌，靜密封，0泄漏，適合粘稠物料及磁性物料的攪拌使用。

催化評價裝置由管式爐和自動化控制系統(tǒng)組成。管式爐有三個加熱區(qū)，采用雙層殼體結構和智能控溫儀表，每個加熱區(qū)能進行30段程序控溫，移相觸發(fā)，可控硅控制，爐膛采用進口氧化鋁多晶纖維材料，該爐為臥式，三個溫區(qū)可以獨立控制，設置不同的溫度，使用簡便，操作簡單，該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等特點；自動化控制柜用于控制氣體及液體的精準進料，能夠控制各連接部件的溫度及程序設置，能自

光熱催化微反裝置適用于光熱協(xié)同催化、光催化催化劑的評價及篩選，可做光催化的反應動力學、反應歷程等方面的研究。主要應用到高溫光熱催化反應，光熱協(xié)同催化，具體可用于半導體材料的合成燒結、催化劑材料的制備、催化劑材料的活性評價、光解水制氫、光解水制氧、二氧化碳還原、氣相光催化、甲醛氣體的光催化降解、VOCs、NOx、SOx、固氮等領域。